製品一覧

ジルコニア微粒子

ジルコスター®

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
結晶質ジルコニア
MEK分散液(濃度70%)
ZP-1530.01分散液約1.8
(粒子)
・高屈折率ナノフィラー

・屈折率&アッベ数調整材料

・歯科材料
結晶質ジルコニア
ベンジルアクリレート
分散液(濃度80%)
HR-1010.01分散液約1.8
(粒子)
1.67
(有姿)

シリカ微粒子

シーホスター®KE

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
アモルファスシリカ
(エチレングリコール
分散体:濃度20%)
KE-E100.1分散液1.43
(シリカ)
1.2
(シリカ =2.0)
・半導体封止剤用
フィラー

・液晶用シール剤用フィラー

・アンチブロッキング剤
KE-E300.3
KE-E1501.5
アモルファスシリカ
(水分散体:濃度10~20%)
KE-W100.1分散液1.43
(シリカ)
1.1
(シリカ =2.0)
KE-W300.3
KE-W500.5
アモルファスシリカKE-P100.1粉体1.431.9
KE-P300.3
KE-P500.5
KE-P1001
KE-P1501.5
KE-P2502.5
KE-S300.3粉体1.432.2
KE-S500.5
KE-S1001
KE-S1501.5
KE-S2502.5
表面処理タイプ0.1〜2.5粉体1.432.2

有機無機複合微粒子

ソリオスター®RA

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
有機無機複合化合物製品3.5粉体1.541.1・反射防止フィルム用粒子

・高精度ギャップ制御剤
3.51.591.1
4.81.551.2
51.521.2
51.571.2
61.541.2
開発品2~801.50
~1.60
1.1
~1.4

アクリル、アクリル-スチレン系微粒子

エポスター®MV

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
アクリル系架橋物MV10022粉体1.511.2・アンチブロッキング剤
・光学フィルム用光拡散剤
・マット剤
・空孔形成剤
MV10044
MV10066
MV101010

エポスター®MX

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
アクリル系架橋物
(水分散体:濃度7.5~10%)
MX020W0.02分散液1.541.2・滑り性向上剤

・空孔形成剤

・フィルム
 補強剤
MX030W0.04
MX050W0.07
MX100W0.15
MX200W0.35
MX300W0.45

エポスター®MA2003

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
アクリル-スチレン系架橋物MA20033粉体1.561.2光学フィルム用
光拡散剤

メラミン、ベンゾグアナミン系微粒子

エポスター®

基材タイプ平均
粒子径
(μm)
粒度
分布
形態物理的性質用途例
屈折率真比重
ベンゾグアナミン・
ホルムアルデヒド縮合物
MS2粉体1.661.4・光拡散剤

・マット剤

・トナー外添剤
M055
L159
ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物M303粉体1.661.4
メラミン・ホルムアルデヒド縮合物SS0.1粉体1.661.5
S0.2
FS*0.2
S60.4
S121.2
*低ホルマリンタイプ

2019/7/31 作成

※お取り扱いの際には必ず化学品安全データシート(SDS)をご参照ください。